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Rt®-Q-BOND熔融石英PLOT柱

更新時間:  2017-07-05

產品型號:  

產品報價:  

所  在  地:  北京市朝陽區望京西園222號星源國際D座1503室

產品特點:  • CO2 高保留性簡化了氣體分析;從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷(注意: 在室溫下O2/N2/CO不能被分離)
• 用於氧化化合物和溶劑的分析
• Z高溫度: 300 °C

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產品概述

 

Rt®-Q-BOND熔融石英PLOT
100% 二乙烯基苯
·非極性 PLOT柱報告100%二乙烯基苯。
·非常適合分析C1 C3的同分異構體和直到C12的烷類
· CO2 高保留性簡化了氣體分析;從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷注意:在室溫下O2/N2/CO不能被分離
·用於氧化化合物和溶劑的分析
·zui高溫度: 300 °C
 
類似固定相:Supel-Q-PLOT, AT-Q, CP-PoraPLOT Q, PoraBond Q

訂貨號 #
長度
內徑
厚度
單位
19764
15m
0.25mm
8μm
ea.
19765
30m
0.25mm
8μm
ea.
19743
15m
0.32mm
10μm
ea.
19744
30m
0.32mm
10μm
ea.
19741
15m
0.53mm
20μm
ea.
19742
30m
0.53mm
20μm
ea.

Showing 1 to 6 of 6 entries
 
描述:
Restek的化學家開發了一種新的多孔聚合物PLOT柱製造工藝。這種工藝包括將微粒吸附在柱壁上,所以幾乎沒有微粒的脫離現象。因為這種微粒與柱壁的吸附作用,使柱與柱在選擇和流失保持可重複性。
 
·非極性 PLOT柱報告100%二乙烯基苯。
·非常適合分析C1 C3的同分異構體和直到C12的烷類
· CO2 高保留性簡化了氣體分析;從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷注意:在室溫下O2/N2/CO不能被分離
·用於氧化化合物和溶劑的分析
·zui高溫度: 300 °C

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聯係人:薛海玲  電話:010-84723211  郵箱:xuehail@163.com  總部地址:北京市朝陽區望京西園222號星源國際D座1503室

研發中心:北京市平穀區中關村科技園區興穀A區平和街39號院(聯東U穀)22號樓C區

產品應用中心:北京市海澱區高裏掌路3號院雲中心16號樓1A 101-3

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